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    1. 等离子体的产生:在低压状态下,通入工艺气体(如氧气、氮气、氢气等)并加电场,气体分子被电离成离子和自由电子,形成等离子体。
    2. 等离子体的反应:等离子体中的离子和自由电子与表面发生反应,去除表面的污染物和氧化层,并将表面活化。
    3. 清洗气体的选择:根据不同的清洗需求,选择不同的清洗气体,例如氧气用于去除碳化物和氧化层,氮气用于去除有机物等。
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