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    氧气(O₂):常用于去除有机物污染。氧气在等离子体状态下产生的活性氧原子可以与有机物发生氧化反应,将其转化为二氧化碳、水等挥发性物质,从而达到清洗的目的。
    氩气(Ar):常用于表面活化。氩气等离子体中的氩离子具有较高的能量,能够通过物理轰击作用去除材料表面的吸附层、氧化物等,使表面得到活化,提高表面活性。
    氮气(N₂):氮气可用于一些对表面性质有特定要求的处理过程,例如在某些情况下,氮气等离子体可以在不改变材料基本化学性质的前提下,对表面进行清洗和活化,或者用于调整表面的粗糙度和化学组成。
    氢气(H₂):氢气可以与一些金属氧化物发生还原反应,用于去除金属表面的氧化层。此外,氢气等离子体还可用于某些材料的表面改性,改变材料表面的化学结构和性能。
    空气:在一些简单的清洗或活化应用中,空气也可以作为工作气体。空气等离子体可以去除表面的灰尘、有机物等污染物,并且成本较低,使用方便。

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